磁控溅射多弧离子镀复合镀膜机主要用于镀制多层复合膜，可以镀制Cu、Al、Au、Ag、Ni、Si、Cr等多种纯金属膜，也可以镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、TiCrCN、ZrN、CrN等彩色装饰性膜层及其化合物复合硬质膜层。
可控性强: 工艺参数可调性强，如调整反应气体流量、沉积功率、脉冲频率等。
适用性广: 磁控溅射多弧离子镀复合镀膜机适用于各种基材的薄膜制备，如金属、陶瓷、聚合物等。
生产效率高: 设备采用连续生产工艺，可快速制备大面积的薄膜，生产效率高。
薄膜质量高: 制备的薄膜致密度高、结合力强、表面平整度好、硬度高、耐磨性强，是一种高质量的复合薄膜。
多种镀膜方式: 设备可采用磁控溅射、多弧离子镀、离子束镀等多种镀膜方式，使其能够制备多种材料的薄膜。
薄膜组合灵活: 设备能够实现不同材料的薄膜组合，如金属、陶瓷、氧化物等材料之间的组合，从而实现薄膜功能的多样化。